(408) 844-7100
MENU
MENU
Produits
Plaquettes de silicium
Plaquette de 300 mm
Plaquette de 200 mm
Plaquettes de petit diamètre
Gaufrettes polies double face
Plaquettes ultraplates
Plaquettes de la zone flottante
Faible résistivité
Plaquettes de type N
Gaufrettes Coinroll
Lingot de silicium
Silicium sur isolant
SOI en couches épaisses et minces
Cavité SOI (C-SOI)
Matériaux autres que le silicium
Verre
Saphir
Semi-conducteurs composés
Carbure de silicium
Carbure de silicium (4H & 6H)
Récupération du carbure de silicium
Films et traitement des plaquettes de silicium
Film sur mesure
Films d'oxyde
Films de nitrure de silicium
Métaux déposés
Résine photosensible
PolySilicium
TEOS
Films à faible constante diélectrique
Carbure de silicium
Dépôt chimique en phase vapeur
Traitement
Recuit
Implant
Polissage et remise en état
Découpage
Réduction d'effectifs/découpage au laser
Service de plaquettes épitaxiées
Marquage au laser
Lithographie
Éclaircissement des plaquettes de silicium
Inventaire
L'éducation
Glossaire des semi-conducteurs
Processus de fabrication des plaquettes de silicium
Notre entreprise
Notre entreprise
Approvisionnement responsable en minerais
Contactez nous
Accueil
/
Nouvelles de l'industrie
/
L'industrie des semi-conducteurs annonce ses priorités en matière de recherche et de financement afin de maintenir le leadership des États-Unis dans le domaine de la technologie des puces électroniques
/
Rapport-intermédiaire-du-plan-décennal-21PG-2-redimensionné
Rapport-intermédiaire-du-plan-décennal-21PG-2-redimensionné
(408) 844-7100 