Le nitrure de silicium est un composé chimique (Si3N4, SiN) qui surfre une excellente stabilité mécanique et Lermique. Il est couramment utilisé pour les masques durs, comme matériau diélectrique ou comme couche de passivation. Le nitrure de silicium, très dur par nature, présente une bonne résistance aux chocs Lermiques et à l'oxydation. Vous trouverez ci-dessous les types de nitrures proposés par SVM.

Film de nitrure de silicium LPCVD (film SiN)

Le processus à plus haute température permet d'obtenir un film plus pur et très stable.

Appliqué sur les deux faces de la plaquette.

Proposé en 4 types :

1. Nitrure LPCVD stœchiométrique :

Film de nitrure standard
Film très polyvalent
Excellent isolant
Excellent masque dur
Couramment utilisé pour les MEMS

Spécifications stœchiométriques pour le nitrure :

Gamme d'épaisseur : 100Å - 7500Å
Indice de réfraction : 2.00 +/-.05
Contrainte du film : >800MPa Contrainte de traction
Taille de la plaquette : 25 mm - 300 mm
Température : 700°C - 800°C
Côtés traités : Les deux

2. Nitrure LPCVD à faible contrainte :

Utilisations courantes

Masque dur
Structures mécaniques
Poutres en porte-à-faux
Membranes
Applications MEMS

Spécifications du nitrure à faible contrainte

Gamme d'épaisseur : 50Å - 2µm
Tolérance d'épaisseur : +/-5%
Uniformité à l'intérieur de la tranche de silicium : +/-5% ou mieux
Uniformité d'une tranche à l'autre : +/-5% ou mieux
Côtés traités : les deux
Indice de réfraction : 2.20 +/-.02
Film stress: <250MPa Tensile Stress
Taille de la plaquette : 50 mm-300 mm
Température : 820°C

3. Nitrure LPCVD à très faible contrainte :

Peut être déposé plus épais que le nitrure à faible contrainte
Indice de réfraction légèrement plus élevé
Même température que le nitrure à faible contrainte

Utilisations courantes

Masque dur
Structures mécaniques
Poutres en porte-à-faux
Membranes
Applications MEMS

Nitrure à très faible contrainte Spécifications :

Gamme d'épaisseur : 50Å - 2µm
Tolérance d'épaisseur : +/-5%
Uniformité à l'intérieur de la tranche de silicium : +/-5% ou mieux
Uniformité d'une tranche à l'autre : +/-5% ou mieux
Côtés traités : Les deux
Indice de réfraction : 2.30

4. Stress ciblé LPCVD Nitrure :

Peut être personnalisé en fonction de vos besoins en matière de tension du film pour les films en traction ou en compression.
Peut être très épais, jusqu'à 2µm
Indice de réfraction personnalisable

Spécifications du nitrure ciblé :

Gamme d'épaisseur : 50Å - 2µm
Tolérance d'épaisseur : +/-5%
Uniformité à l'intérieur de la tranche de silicium : +/-5% ou mieux
Uniformité d'une tranche à l'autre : +/-5% ou mieux
Côtés traités : Les deux
Indice de réfraction : 2.05 - 2.35
Contrainte du film : Votre objectif +/-50MPa Contrainte de traction
Taille de la plaquette : 50 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm
Épaisseur de la plaquette : 100 µm - 2 000 µm
Matériau de la plaquette : Silicium, silicium sur isolant, quartz
Température : 800°C - 820°C

Film de nitrure de silicium PECVD (film SiN)

Procédé alternatif à basse température
Appliqué sur une seule face de la plaquette
Bon indice de réfraction
Procédés standard et à faible contrainte disponibles

PECVD Nitride Spécifications :

Gamme d'épaisseur : 100Å - 2µm
Tolérance d'épaisseur : +/-7%
Uniformité à l'intérieur de la tranche de silicium : +/-7% ou mieux
Uniformité d'une tranche à l'autre : +/-7% ou mieux
Côtés traités : Un
Indice de réfraction : 1.98+/-.05
Film stress: <200MPa(Low Stress), +400MPa (Standard)
Taille de la plaquette : 50 mm - 300 mm
Température : 300°C - 400°C

Film ALD de nitrure de silicium (film SiN)

Procédé alternatif à basse température
Appliqué sur une seule face de la plaquette.
Film très conforme de haute qualité
Précision à l'échelle atomique

Nitrure ALD Spécifications :

Gamme d'épaisseur : 10Å - 350Å
Tolérance d'épaisseur : +/-5% ou mieux
Uniformité à l'intérieur de la tranche de silicium : +/-5% ou mieux
Côtés traités : Un
Taille de la plaquette : 200 mm - 300 mm
Température : 450°C

Oxynitrure de silicium PECVD (SiON)

Moins d'impuretés d'hydrogène
Amélioration de la stabilité
Amélioration de la fiabilité de l'appareil
Excellente résistance aux fissures
Excellent pour la planarisation des interconnexions multi-niveaux
Ces propriétés signifient que l'oxynitrure de silicium fonctionne parfaitement comme couche de passivation finale, diélectrique au niveau intermétal et revêtement pour l'isolation des tranchées.

Spécifications de l'oxynitrure :