PVD、溅射和蒸发金属

SVM在提供PVD、溅射和蒸发金属方面已有30年的经验。除晶圆加工外,我们还提供各种衬底的加工服务,包括氧化铝、熔融石英、氮化铝、碳化硅和其他材料。我们有能力制备各种薄膜厚度,并保证其均匀性和电阻均匀性处于行业领先水平。以下是我们提供的常见薄膜的清单。请与我们联系,告诉我们您的具体需求。

SVM的溅射/蒸发金属:

  • 铝(Al)
  • 铝/铜(AlCu) – .5%, 1%, 4%
  • 铝/硅(AlSi)– .1%, 1%, 2%
  • 氮化铝(反应性)
  • 氧化铝(Al2O3)
  • 碳 (C)
  • 铬 (Cr)
  • 氧化铬(Cr2O3)- 非反应性
  • 铬硅(CrSi)
  • 钴 (Co)
  • 铜(Cu)
  • 铜镍合金(CuNi)–60/40
  • 锗 (Ge)
  • 金 (Au)
  • 铪(Hf)
  • 氧化铟锡(ITO)
  • 铁(Fe)
  • 钼 (Mo)
  • 镍(Ni)
  • 铌(Nb)
  • 钯(Pd)
  • 铂(Pt)
  • 钌(Ru)
  • 硅 – 掺杂和未掺杂
  • 碳化硅 (SiC)
  • 银 (Ag)
  • 钽(Ta)
  • 氮化钽(TaN)
  • 锡 (Sn)
  • 钛(Ti)
  • 氧化钛(TiO2)
  • 氮化钛(TiN)
  • 钛钨(TiW)
  • 钨(W)
  • 氮化钨(WN)
  • 钨硅(WSI)
  • 锆(Zr)
  • 氧化锆(ZrO2)

采用PECVD或LPCVD工艺沉积的SVM化学气相沉积薄膜:

CVD 金属:

  • 钴(Co)
  • 氮化钴(CoN)
  • 钛(Ti)
  • 氮化钛(TiN)
  • 钨(W)
  • 氮化钨(WN)
  • 碳化硅(SiC)
  • 碳化硅氮化物(SiCN)(SiCO)
  • 氮化硅(SiN)
  • 氮氧化硅(SiON)

SVM原子层沉积(ALD)金属:

  • 氧化铝(Al2O3)
  • 氧化镍(NiO)
  • 氮化铌(NbN)
  • 氧化铌(NiO2)
  • 五氧化二铌(Nb2O5)
  • 碳化硅(SiC)
  • SiCN
  • SICO
  • 氮化硅(SiN)
  • SiON
  • 钨(W)
  • 氮化钛(TiN)
  • 氮化镍(NiN)

电镀金属:

  • 锡(Sn)或锡合金
  • 铜(Cu)
  • 镍(Ni)
  • 银(Ag)
  • 金(Au)
  • 钯(Pd)
  • 铂(Pt)

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