蒸着金属

PVD、スパッタリング、蒸着金属

SVMは、PVD、スパッタリング、蒸着金属を提供して30年の経験があります。シリコンウエーハの加工以外にも、アルミナ、溶融シリカ、窒化アルミニウム、シリコンカーバイトなど、様々な基板への加工を承っております。業界をリードする均一性と抵抗均一性で、幅広い膜厚を提供しています。下記は一般的なフィルムのリストです。具体的なご要望がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

SVM スパッタリング/蒸着金属：

• アルミニウム（Al）
• アルミニウム/銅（AlCu） - 0.5%、1%、4
• アルミニウム/シリコン（AlSi） - 0.1%、1%、2
• 窒化アルミニウム（反応性）
• 酸化アルミニウム (Al2O3)
• カーボン（C）
• クロム（Cr）
• 酸化クロム (Cr2O3) - 非反応性
• クロムシリコン（CrSi）
• コバルト
• 銅（Cu）
• 銅ニッケル（CuNi） - 60/40
• ゲルマニウム (Ge)
• 金（Au）
• ハーフニウム（Hf）
• インジウム・スズ酸化物（ITO）
• 鉄（Fe）
• モリブデン (Mo)
• ニッケル（Ni）
• ニオブ
• パラジウム
• プラチナ (Pt)
• ルテニウム（Ru）
• シリコン - ドープ型と非ドープ型
• シリコンカーバイト（SiC）
• 銀（Ag）
• タンタル (Ta)
• 窒化タンタル（TaN）
• 錫（Sn）
• チタン（Ti）
• 酸化チタン (TiO2)
• 窒化チタン（TiN）
• チタニウム・タングスター（TiW）
• タングステン（W）
• 窒化タングステン（WN）
• タングステンシリコン（WSI）
• ジルコニウム（Zr）
• 酸化ジルコニウム (ZrO2)

SVM 化学蒸着法 PECVD または LPCVD プロセスで蒸着されたフィルム:

CVD金属：

• コバルト
• 窒化コバルト（CoN）
• チタン（Ti）
• 窒化チタン（TiN）
• タングステン（W）
• 窒化タングステン（WN）
• シリコンカーバイト（SiC）
• シリコンカーバイト窒化物(SiCN)。SiCO)
• 窒化シリコン (SiN)
• シリコンオキシナイトライド（SiON）

SVM 原子層蒸着（ALD）金属：

• 酸化アルミニウム (Al2O3)
• 酸化ニッケル（NiO）
• 窒化ニオブ (NbN)
• 酸化ニオブ (NiO2)
• ニオブ酸素 (Nb2O5)
• シリコンカーバイト（SiC）
• シリコンカーバイトナイトライド（SiCN）
• シリコンカーバイト-酸素（SICO）
• 窒化シリコン (SiN)
• シリコンオキシナイトライド（SiON）
• タングステン（W）
• 窒化チタン（TiN）
• 窒化ニッケル（NiN）

電気メッキ金属：

• 錫（Sn）または錫合金
• 銅（Cu）
• ニッケル（Ni）
• 銀（Ag）
• 金（Au）
• パラジウム
• プラチナ (Pt)