PVD、溅射和蒸发金属
SVM 在提供 PVD、溅射和蒸发金属方面拥有 30 年的经验。除硅晶圆加工外,我们还提供对氧化铝、熔融石英、氮化铝、碳化硅和其他材料等各种基底的加工。我们提供各种厚度的薄膜,其均匀性和电阻均匀性在业内处于领先地位。以下是我们提供的常见薄膜。如有具体要求,请与我们联系。
SVM 溅射/蒸发金属:
- 铝 (Al)
- 铝/铜 (AlCu) - .5%、1%、4
- 铝/硅 (AlSi) - .1%、1%、2
- 氮化铝(反应型)
- 氧化铝(Al2O3)
- 碳 (C)
- 铬 (Cr)
- 氧化铬(Cr2O3)-非活性
- 铬硅 (CrSi)
- 钴(Co)
- 铜 (Cu)
- 铜镍 (CuNi) - 60/40
- 锗 (Ge)
- 金(Au)
- 半铪(Hf)
- 氧化铟锡(ITO)
- 铁(Fe)
- 钼(Mo)
- 镍 (Ni)
- 铌 (Nb)
- 钯 (Pd)
- 铂 (Pt)
- 钌 (Ru)
- 硅-掺杂和非掺杂
- 碳化硅(SiC)
- 银 (Ag)
- 钽 (Ta)
- 氮化钽(TaN)
- 锡(Sn)
- 钛 (Ti)
- 氧化钛(TiO2)
- 氮化钛 (TiN)
- 钛通斯特(TiW)
- 钨 (W)
- 氮化钨(WN)
- 钨硅(WSI)
- 锆 (Zr)
- 氧化锆(ZrO2)
采用 PECVD 或 LPCVD 工艺沉积的 SVM 化学气相沉积薄膜:
CVD 金属:
- 钴(Co)
- 氮化钴(CoN)
- 钛 (Ti)
- 氮化钛 (TiN)
- 钨 (W)
- 氮化钨(WN)
- 碳化硅(SiC)
- 氮化碳化硅(SiCN)。SiCO)
- 氮化硅(SiN)
- 氮化硅(SiON)
SVM 原子层沉积 (ALD) 金属:
- 氧化铝(Al2O3)
- 氧化镍(NiO)
- 氮化铌(NbN)
- 氧化铌(NiO2)
- 氧铌 (Nb2O5)
- 碳化硅(SiC)
- 氮化碳化硅(SiCN)
- 碳化硅-氧(SICO)
- 氮化硅(SiN)
- 氮化硅(SiON)
- 钨 (W)
- 氮化钛 (TiN)
- 氮化镍(NiN)
电镀金属
- 锡(Sn)或锡合金
- 铜 (Cu)
- 镍 (Ni)
- 银 (Ag)
- 金(Au)
- 钯 (Pd)
- 铂 (Pt)

湾区任何地方,4 小时内均可送达。

美国境内 1 天内送达。

国际快递 3 天内送达。