PVD、溅射和蒸发金属

SVM 在提供 PVD、溅射和蒸发金属方面拥有 30 年的经验。除硅晶圆加工外,我们还提供对氧化铝、熔融石英、氮化铝、碳化硅和其他材料等各种基底的加工。我们提供各种厚度的薄膜,其均匀性和电阻均匀性在业内处于领先地位。以下是我们提供的常见薄膜。如有具体要求,请与我们联系。

SVM 溅射/蒸发金属:

  • 铝 (Al)
  • 铝/铜 (AlCu) - .5%、1%、4
  • 铝/硅 (AlSi) - .1%、1%、2
  • 氮化铝(反应型)
  • 氧化铝(Al2O3)
  • 碳 (C)
  • 铬 (Cr)
  • 氧化铬(Cr2O3)-非活性
  • 铬硅 (CrSi)
  • 钴(Co)
  • 铜 (Cu)
  • 铜镍 (CuNi) - 60/40
  • 锗 (Ge)
  • 金(Au)
  • 半铪(Hf)
  • 氧化铟锡(ITO)
  • 铁(Fe)
  • 钼(Mo)
  • 镍 (Ni)
  • 铌 (Nb)
  • 钯 (Pd)
  • 铂 (Pt)
  • 钌 (Ru)
  • 硅-掺杂和非掺杂
  • 碳化硅(SiC)
  • 银 (Ag)
  • 钽 (Ta)
  • 氮化钽(TaN)
  • 锡(Sn)
  • 钛 (Ti)
  • 氧化钛(TiO2)
  • 氮化钛 (TiN)
  • 钛通斯特(TiW)
  • 钨 (W)
  • 氮化钨(WN)
  • 钨硅(WSI)
  • 锆 (Zr)
  • 氧化锆(ZrO2)

采用 PECVD 或 LPCVD 工艺沉积的 SVM 化学气相沉积薄膜:

CVD 金属:

  • 钴(Co)
  • 氮化钴(CoN)
  • 钛 (Ti)
  • 氮化钛 (TiN)
  • 钨 (W)
  • 氮化钨(WN)
  • 碳化硅(SiC)
  • 氮化碳化硅(SiCN)。SiCO)
  • 氮化硅(SiN)
  • 氮化硅(SiON)

SVM 原子层沉积 (ALD) 金属:

  • 氧化铝(Al2O3)
  • 氧化镍(NiO)
  • 氮化铌(NbN)
  • 氧化铌(NiO2)
  • 氧铌 (Nb2O5)
  • 碳化硅(SiC)
  • 氮化碳化硅(SiCN)
  • 碳化硅-氧(SICO)
  • 氮化硅(SiN)
  • 氮化硅(SiON)
  • 钨 (W)
  • 氮化钛 (TiN)
  • 氮化镍(NiN)

电镀金属

  • 锡(Sn)或锡合金
  • 铜 (Cu)
  • 镍 (Ni)
  • 银 (Ag)
  • 金(Au)
  • 钯 (Pd)
  • 铂 (Pt)

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