(408) 844-7100
メニューメニュー
  • 製品
          • シリコンウェハー
          • 300mm ウェハー
          • 200mm ウェハー
          • 小径ウェハー
          • 両面研磨ウェハー
            • ウルトラ フラット ウェハー
          • フロートゾーンウェーハ
          • 低抵抗
          • N型ウェーハ
          • コインロールウェハース
          • シリコンインゴット

        • シリコンオンインシュレーター

          • 厚膜・薄膜SOI
          • キャビティSOI (C-SOI)

        • 非シリコン材料

          • ガラス
          • サファイア
          • 化合物半導体

        • シリコンカーバイト

          • シリコンカーバイト(4H & 6H)
          • シリコンカーバイトの回収
  • ウェハーフィルムと工程

        • カスタムフィルム

          • 酸化膜
          • 窒化ケイ素膜
          • 蒸着金属
          • フォトレジスト
          • ポリシリコン
          • TEOS
          • 低k膜
          • シリコンカーバイト
          • 化学蒸着

        • 加工

          • アニール
          • インプラント
          • 研磨と再生
          • ダイシング
          • 小型化／レーザー切断
          • エピタキシャルウェハーサービス
          • レーザーマーキング
          • リソグラフィー
          • ウェハーシニング
  • 在庫
  • 教育
          • 半導体用語集
          • シリコンウェーハ製造プロセス
  • 会社概要
お問い合わせ
ホーム / 2021 / 2月

月：2021年2月

検索

最近の投稿

  • 2021年第3四半期の世界半導体製造装置出荷額は前年同期比38%増となり、5四半期連続で過去最高を記録、SEMIが報告
  • 2021年第3四半期、世界のシリコンウェーハ出荷量が過去最高を記録、半導体業界が報告
  • GlobalFoundries CEO2023年までの半導体チップ生産能力は完売
  • 東南アジアの港湾交通は過去6ヶ月で最悪-米国のサプライチェーンにさらなる混乱をもたらす可能性
  • Mercedesが出資するFarasis社、シリコンが電池のエネルギーを25％高めると発表

アーカイブス

  • 2021年12月
  • 2021年11月
  • 2021年10月
  • 2021年9月
  • 2021年8月
  • 2021年7月
  • 2021年6月
  • 2021年5月
  • 2021年4月
  • 2021年3月
  • 2021年2月
  • 2021年1月
  • 2020年12月
  • 2020年11月
  • 2020年10月
  • 2020年9月
  • 2020年8月

カテゴリー

  • 業界ニュース
  • 未分類
  • カテゴリーなし
  • 未分類
  • 未分類

メタ

  • ログイン
  • エントリーフィード
  • コメントフィード
  • WordPress.org
お問い合わせ
キファー・ロード2985
サンタクララ, CA 95051-0802
電話 (408) 844-7100 電子メール [email protected]
© 2011-2024 Silicon Valley Microelectronics, Inc.無断複写・転載を禁じます。 プライバシーポリシー
  • English
  • 中文 (简体)
  • 한국어
  • Français
  • Deutsch