沉积金属

PVD、溅射和蒸发金属

SVM在提供PVD、溅射和蒸发金属方面已有30年的经验。除晶圆加工外，我们还提供各种衬底的加工服务，包括氧化铝、熔融石英、氮化铝、碳化硅和其他材料。我们有能力制备各种薄膜厚度，并保证其均匀性和电阻均匀性处于行业领先水平。以下是我们提供的常见薄膜的清单。请与我们联系，告诉我们您的具体需求。

SVM的溅射/蒸发金属：

• 铝（Al）
• 铝/铜（AlCu） – .5%, 1%, 4%
• 铝/硅（AlSi）– .1%, 1%, 2%
• 氮化铝（反应性）
• 氧化铝（Al2O3）
• 碳 （C）
• 铬 （Cr）
• 氧化铬（Cr2O3）- 非反应性
• 铬硅（CrSi）
• 钴 （Co）
• 铜（Cu）
• 铜镍合金（CuNi）–60/40
• 锗 （Ge）
• 金 （Au）
• 铪（Hf）
• 氧化铟锡（ITO）
• 铁（Fe）
• 钼 （Mo）
• 镍（Ni）
• 铌（Nb）
• 钯（Pd）
• 铂（Pt）
• 钌（Ru）
• 硅 – 掺杂和未掺杂
• 碳化硅 （SiC）
• 银 （Ag）
• 钽（Ta）
• 氮化钽（TaN）
• 锡 （Sn）
• 钛（Ti）
• 氧化钛（TiO2）
• 氮化钛（TiN）
• 钛钨（TiW）
• 钨（W）
• 氮化钨（WN）
• 钨硅（WSI）
• 锆（Zr）
• 氧化锆（ZrO2）

采用PECVD或LPCVD工艺沉积的SVM化学气相沉积薄膜：

CVD 金属：

• 钴（Co）
• 氮化钴（CoN）
• 钛（Ti）
• 氮化钛（TiN）
• 钨（W）
• 氮化钨（WN）
• 碳化硅（SiC）
• 碳化硅氮化物（SiCN）（SiCO）
• 氮化硅（SiN）
• 氮氧化硅（SiON）

SVM原子层沉积（ALD）金属：

• 氧化铝（Al2O3）
• 氧化镍（NiO）
• 氮化铌（NbN）
• 氧化铌（NiO2）
• 五氧化二铌（Nb2O5）
• 碳化硅（SiC）
• SiCN
• SICO
• 氮化硅（SiN）
• SiON
• 钨（W）
• 氮化钛（TiN）
• 氮化镍（NiN）

电镀金属：

• 锡（Sn）或锡合金
• 铜（Cu）
• 镍（Ni）
• 银（Ag）
• 金（Au）
• 钯（Pd）
• 铂（Pt）